年中的时候，上海电子终于交付给了旻西科技两台光刻机。

上海电子的老总凃志亲自来到深圳交付光刻机，足以看出他对光刻机的重视。

晏旻和蔺征西去接待他，凃志说：“晏总、蔺总，我这回算是把自家孩子送到你们这儿来了，不听话不配合，你们只管跟我们说，一定不要手下留情，请严加管教。”

晏旻听到这个比喻，忍不住笑出了声：“没问题，我们一定会好好管教的，绝不姑息手软。涂总你们接下来打算研发哪个精度的光刻机？”

凃志说：“下一步应该是挑战0.18微米的了。”

晏旻说：“还沿用原来的干式光刻机方向吗？”

“应该是吧。尼康已经突破了193nm光源波长的限制，实现了157nm的精度。我们还差得远呢。”上海电子的光刻机研究道路还是沿用传统的干式光刻机。

晏旻说：“去年荷兰的阿斯麦尔不是宣布已经成功实现了浸润式光刻机研发？”

凃志说：“是有所耳闻。不过这个理论过新，目前为止，还没能接受市场的检验，所以还得观望一下。”

晏旻听到这里，也不知道该怎么接话。的确，目前阿斯麦尔和尼康属于大道之争，相较于行业之师尼康，阿斯麦尔像个没有根基的莽撞少年，纵使灵光乍现，冒出一个不错的点子，但又如何能够撼动根深蒂固的老教授的地位呢？

过了一会儿，晏旻说：“我只是觉得，这可能是一个发展方向。干式光刻机卡在193nm的时间太长了一点，往后突破的难度只会更大。浸润式光刻机提供了一个新思路，阿斯麦尔已经研发成功，我们等着看他的成品吧。”

凃志点头：“对，其实这些还不是我们该考虑的。毕竟我们离193nm还有一段不小的距离呢。”

晏旻没再就这个话题继续发表意见，他若竭力推浸润式光刻机，反倒显得别有用心，点到为止就可以了，反正凃志也不是个糊涂人。

果然，在尼康上下还沉浸在突破157nm光刻机的喜悦中时，阿斯麦尔宣告132nm浸润式光刻机量产成功，欢迎世界各地的芯片公司前去下单。

阿斯麦尔说欢迎下单这话其实就是客套话，因为全球最先进的几家芯片厂都是它的股东，包括英特尔、三星以及台积电，它现在生产出来的产品还不够这几家用的呢。

一石激起千层浪，当年提出浸润式光刻的台积电工程师林本坚曾经游说过尼康和佳能等大厂合作，都被拒绝了，如今浸没式光刻机由阿斯麦尔研发成功，而且精度还要高于尼康的干式光刻机，这说明了浸润式是完全正确的方向，颇有点打脸尼康的味道。

尼康也许还没意识到，这才仅仅是开始，属于他们的时代马上就要过去了。

凃志再次跟晏旻交流光刻机信息的时候，说：“也许你的建议是对的，浸润式是一个方向，我们研发部的同事们一起开会商量，有半数都赞同可以试试这个方向。”

“那太好了，祝你们早日成功！”晏旻听到这里松了口气，至少自己提的建议还是有效的。

不过，要想出成绩，怕是短时间内做不到，但只要现在就开始做，应该能早点见到曙光吧。